电路设计中,dummy的作用
的有关信息介绍如下:1、保证可制造性,防止芯片在制造过程中由于曝光过渡或不足而导致的蚀刻失败。
2、避免由于光刻过程中光的反射与衍射而影响到关键元器件物理图形的精度,进又而影响其size。
3、避免芯片中的noise对关键信号的影响,在关键信号的周围加上dummy routing layer后者dummy元器件。

扩展资料:
在匹配电路的mos管左右画上dummy,用poly,poly的尺寸与管子尺寸一样,dummy与相邻的第一个polygate的间距等于polygate之间的间距。
金属层dummy要和金属走向一致,即如果M2横走,M2的dummy也是横走向。
多个电阻(大于两根)打上DUMMY。保证每根电阻在光刻时所处的环境一样,最外面的电阻的NpIM层要超出EpOLY20.55um,即两根电阻间距的一半。消除电阻dummy的lvs报错,把nimp和Rpdummy层移出最边缘的电阻,不要覆盖dummy。



